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  1. 高精度光掩膜基版

    采用當前世界最先進生產、檢測設備以及工藝技術,結合公司獨創技術,建成能夠生產75×75mm至700×800mm各種規格的濺射勻膠鉻版生產線,產品廣泛應用于新型平板顯示器件、集成電路、精細光學、線路板、微納加工及激光防偽等多種產業的光掩膜制作

     
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